· 基于独有的超高真空薄膜生长互联系统技术制备开发 · 可快速进行材料的原子层面设计调控与材料筛选 · 可实现5-12层纳米级薄膜的均匀化制备 · 薄膜厚度的不均匀性低于1% · 广泛应用于科学研究、半导体器件行业
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